ATH de alta brancura

O retardador de chama ATH (trihidróxido de alumínio) de alta brancura, também conhecido como produto de hidróxido de alumínio (Al (OH) ₃) de alto grau de pureza, é um material retardador de chama inorgânico sem halogênio preparado por meio de um processo integrado de "purificação de precisão de modificação in-situ de precipitação controlável". A pureza do núcleo cobre três níveis: 4N (99,99%), 5N (99,999%) e 6N (99,9999%), alcançando sinergia retardadora de chama tripla de absorção de calor e resfriamento, diluição de gás e formação de filme de barreira de oxigênio. A densidade da fumaça durante a combustão é ≤ 35 e não há liberação de gases tóxicos, atendendo totalmente à atualização das regulamentações ambientais globais e aos requisitos de desempenho de materiais de alta qualidade. Especialmente projetado para áreas de ponta, como eletrônica e elétrica, novas energias, semicondutores, aeroespacial, etc.

Principais pontos fortes

1. Processo de purificação ultrapuro: alcançando o controle de impurezas no nível de semicondutores

Romper o gargalo de pureza da tecnologia tradicional de processo úmido, adotar o processo triplo de "troca iônica de purificação por micro-ondas de precipitação gradiente" e construir um sistema abrangente de remoção de impurezas:

-Pureza do componente principal: grau 4N Al(OH)₃ ≥ 99,99%, grau 5N ≥ 99,999%, grau 6N ≥ 99,9999%, teor de Al₂O₃ ≥ 64,5% (grau 6N);

-Controle rigoroso das principais impurezas: Fe≤3ppm, Na ≤ 5ppm, Si ≤ 2ppm, Cl ⁻ ≤ 10ppm, muito superior aos padrões da indústria (Fe ≤ 50ppm, Na ≤ 300ppm);

-Características de baixa condutividade: resistividade ≥ 10¹⁰Ω·m, constante dielétrica estável em 2,8-3,0 (1MHz), atendendo aos requisitos de isolamento de semicondutores e equipamentos de comunicação de alta frequência.

2. Controle preciso do tamanho das partículas em nanoescala: equilibrando a eficiência do retardador de chama e a processabilidade

Usando a tecnologia de "nucleação induzida por cristal de semente + controle de processo de IA", é alcançada a personalização precisa do tamanho das partículas do nível submícron ao nanômetro:

-Faixa de tamanho de partícula: D50=0,1μm-1,0μm, com mínimo de 0,08 μm (nível nanométrico), valor CV do lote (coeficiente de variação) ≤ 3,5%, muito melhor que a média da indústria de 7,8%;

-Otimização da esferoidização: através do processo de cristalização em alta temperatura de granulação por spray, a esfericidade é ≥ 0,92, a área superficial específica é de 40-50 m²/g, e a estabilidade da dispersão na matriz polimérica é melhorada para mais de 96 horas;

-Baixo enchimento e alto retardador de chama: os produtos de grau 6N podem atingir o grau UL94 V-0 com uma baixa adição de 32% em EVA e resina epóxi, reduzindo a quantidade de enchimento em 25% em comparação com o ATH convencional e preservando significativamente as propriedades mecânicas do substrato.

3. Tecnologia de modificação de gradiente in situ: resolvendo os problemas de compatibilidade da interface

Desenvolver de forma inovadora o processo de "revestimento gradiente de agente de acoplamento funcional duplo" para obter ligação química entre ATH e substrato:

-Sistema modificado: camada interna ancorada com amino silano, camada externa hidrofóbica modificada com alquilsilano/éster fosfato de cadeia longa, ângulo de contato com água aumentado de 68 ° para 110 °, taxa de absorção de umidade ≤ 0,1%;

-Avanço de compatibilidade: Quando a quantidade de enchimento em resinas de PVC, PP e epóxi atinge 65%, a taxa de retenção de resistência à tração é ≥ 88% e a resistência ao impacto diminui ≤ 8%, excedendo em muito os padrões da indústria (taxa de retenção de resistência à tração ≥ 75%);

- Expansão da função: retardador de chama personalizável + autolimpeza, retardador de chama + funções compostas de alta condutividade térmica, adequadas para requisitos especiais de cena (como materiais compósitos aeroespaciais, camadas de isolamento de bateria de energia).

4. Produção verde em circuito fechado: em linha com a estratégia global de duplo carbono

Construir um sistema de processo verde de "torração de baixa temperatura, circulação de água em circuito fechado com baixa precipitação alcalina" para alcançar uma situação ganha-ganha tanto para o meio ambiente quanto para os benefícios:

-Otimização do consumo de energia: O consumo abrangente de energia por tonelada de produto foi reduzido para 1,35 toneladas de carvão padrão, uma redução de 25% em comparação com os processos tradicionais, e as emissões de carbono foram reduzidas em mais de 30%;

-Reciclagem de recursos: A taxa de reutilização de águas residuais de produção é ≥ 95%, e a taxa de recuperação de subprodutos como a lama vermelha chega a 72%, o que atende aos requisitos da economia circular;

-Sem emissões prejudiciais: O processo de produção não libera metais pesados ​​ou compostos orgânicos voláteis (VOCs) e foi aprovado na certificação de mais alto nível do sistema de gestão ambiental ISO 14001.

5. Fórmula colaborativa retardante de chama: adaptação personalizada a cenários segmentados

Desenvolva um sistema colaborativo de ATH com base em fósforo, nitrogênio e nano LDH para atender às necessidades personalizadas de campos de alta tecnologia

-Especializado em embalagens de semicondutores: retardador de chama + baixo dielétrico + resistência a altas temperaturas (280 ℃), certificado por materiais semicondutores SEMI;

-Especial para baterias de energia: retardador de chama + alta condutividade térmica (condutividade térmica ≥ 1,2 W/(m · K)), tempo de atraso de fuga térmica ≥ 30 minutos;

-Dedicado ao trânsito ferroviário: baixa emissão de fumaça e baixa toxicidade (geração de CO<800ppm · min), atendendo à norma EN45545-2:2025 R22.

Cenários de aplicação

1. Semicondutores e embalagens eletrônicas

-Cenários de aplicação: solução de polimento CMP de wafer de silício de 12 polegadas, resina de embalagem de semicondutores, invólucro de componentes eletrônicos;

-Valor central: a pureza 6N atende aos requisitos de impurezas de grau semicondutor, desempenho dielétrico estável, retardamento de chama e garante a eficiência da transmissão de sinal eletrônico;

2. Novos veículos de energia e baterias de energia

-Cenários de aplicação: revestimento do diafragma da bateria de alimentação, camada de isolamento da bateria, cabo da pistola de carregamento, peças internas leves;

-Valor central: Alta condutividade térmica + resistência a altas e baixas temperaturas (-40 ℃ ~ 120 ℃), passando no teste de difusão térmica descontrolada, com consumo de bateria única de 5,2 kg;

3. Infraestrutura 5G e comunicação de alta frequência

-Cenários de aplicação: invólucro da estação base 5G, cabos de transmissão de alta frequência, substratos cerâmicos co-queimados de baixa temperatura LTCC;

-Valores principais: Baixa constante dielétrica (2,8-3,0), baixo fator de perda, atendendo às necessidades de transmissão de sinal de alta frequência 5G, com classificação retardante de chama de UL94 V-0;

4. Fabricação aeroespacial e de alta qualidade

-Cenários de aplicação: Materiais compostos epóxi de fibra de carbono, peças internas de aeronaves, revestimentos retardadores de chama de equipamentos aeroespaciais;

-Valores principais: Alta taxa de retenção de desempenho mecânico (resistência à tração ≥ 20MPa quando preenchido com 60%), a resistência ao envelhecimento atende aos padrões da aviação;

-Adaptação da intenção de pesquisa: Qual é o melhor material retardador de chama aeroespacial? A solução ATH personalizada equilibra retardamento de chama, redução de peso e confiabilidade!

5. Trânsito Ferroviário

-Cenários de aplicação: painéis internos de trens/metrôs de alta velocidade, cabos de alta tensão, componentes de frenagem;

-Valor central: Baixa fumaça, baixa toxicidade, gás não corrosivo, aprovado no mais recente padrão EN45545-2:2025, machado de densidade de fumaça ≤ 150;

Perguntas frequentes (FAQ)

Q1: Qual é a diferença entre ATH de alta brancura e ATH regular?

A1: Diferença: ① Brancura: Alta brancura ATH brancura ≥ 99,5%, brancura ATH convencional ≤ 98%, a primeira pode atender às necessidades estéticas de produtos de alta qualidade; ② Impurezas: Ferro ATH de alta brancura, titânio e outras impurezas coloridas possuem teor extremamente baixo, evitando o aparecimento de manchas coloridas e pretas no produto. As impurezas convencionais de ATH possuem alto teor; ③ Adaptabilidade: O ATH de alta brancura é tratado com alta luz e modificação da estrutura cristalina, resultando em melhor dispersão sem afetar o brilho e a transparência do substrato. O ATH convencional pode facilmente fazer com que o substrato fique cinza e áspero.

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